| 发明名称 | 包含耐溅射材料的极端紫外线辐射反射元件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及改进的EUV反射元件，包括：a)第一层，基本上由高反射性材料制成；b)第二层，厚度≤5nm，基本上由耐溅射性≤10nm/108次射击的材料制成，并且由此第二层被设置在入射的和/或反射的EUV光的路径中。 | ||
| 申请公布号 | CN102138185A | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
| 申请号 | CN200980126444.7 | 申请日期 | 2009.07.01 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | C·梅茨马歇尔 |
| 分类号 | G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 龚海军;刘鹏 |
| 主权项 | 一种极端UV辐射反射元件，包括：a) 第一层，基本上由高反射性材料制成；b) 第二层，厚度≤5nm，基本上由耐溅射性≤10nm/108次射击的材料制成，并且其中，第二层被设置在入射的和/或反射的EUV光的路径中。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||