利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法

摘要

利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法，步骤为：选择基片材料；在基片材料表面蒸镀一层金属膜层；金属膜层表面旋涂一层光刻胶；选择光刻掩模，并对样品进行曝光；将样片放入显影液内显影，使光刻胶图形化，同时在显影液的浸泡下，使光刻胶结构边缘与金属膜之间形成缝隙；将图形化的光刻胶结构放入高温烘箱进行烘焙；将上述样片放入金属腐蚀液里腐蚀，即可在光刻胶与金属膜的缝隙处产生缝隙腐蚀，当缝隙内外金属无连接时，将样片从腐蚀液内取出并用去离子水冲洗干净；洗去样片上的光刻胶结构，在金属上得到与缝隙边缘一致的20-80nm的金属纳米结构。本发明具有可实现大面积、任意线条图形的优点。

主权项

利用缝隙腐蚀成形金属纳米结构的制作方法，其特征在于步骤如下：(1)根据需要选择基片材料；(2)在基片材料表面蒸镀一层金属膜层；(3)在所述的金属膜层表面旋涂一层光刻胶，形成样片；(4)根据所需要的金属纳米线条分布情况选择光刻掩模，并用紫外曝光机对光刻胶样品进行曝光；(5)将曝光后的样片放入显影液内显影，使光刻胶图形化，同时在显影液的浸泡下，使光刻胶结构边缘与金属膜之间形成缝隙；(6)将图形化的光刻胶结构放入高温烘箱进行烘焙，使所述的缝隙固定；(7)将上述样片放入金属腐蚀液里腐蚀，即可在光刻胶与金属膜的缝隙处产生缝隙腐蚀，当缝隙内外金属无连接时，将样片从腐蚀液内取出并用去离子水冲洗干净；(8)洗去样片上的光刻胶结构，即在金属上得到与缝隙边缘一致的20‑80nm的金属纳米结构。