| 发明名称 | 校正装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种校正装置，包括：第1再现机构，沿相互正交的X轴和Y轴再现参照图像，该参照图像表示俯视平面的状态；第2再现机构，沿相互正交的U轴和V轴再现从捕捉平面的摄像机输出的被摄景像；接受机构，与第1再现机构的再现处理相关联地接受指定XY坐标系的第1区域的指定操作；第1计算机构，参照表示XY坐标系和UV坐标系之间的对应关系的校正参数，来计算与由指定操作指定出的第1区域对应的UV坐标系的第2区域；和定义机构，与第2再现机构的再现处理相关联地定义由第1计算机构计算出的第2区域。 | ||
| 申请公布号 | CN102136149A | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
| 申请号 | CN201110025235.2 | 申请日期 | 2011.01.20 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 石井洋平;浅利圭介 |
| 分类号 | G06T7/60(2006.01)I;H04N5/232(2006.01)I | 主分类号 | G06T7/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 刘文海 |
| 主权项 | 一种校正装置，包括：第1再现机构，沿相互正交的X轴和Y轴再现参照图像，该参照图像表示俯视平面的状态；第2再现机构，沿相互正交的U轴和V轴再现从捕捉所述平面的摄像机输出的被摄景像；接受机构，与所述第1再现机构的再现处理相关联地接受指定XY坐标系的第1区域的指定操作；第1计算机构，参照表示所述XY坐标系和所述UV坐标系之间的对应关系的校正参数，来计算与由所述指定操作指定出的第1区域对应的UV坐标系的第2区域；和定义机构，与所述第2再现机构的再现处理相关联地定义由所述第1计算机构计算出的第2区域。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||