发明名称 | 光器件及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种光器件及其制造方法。本发明的一个目的是提供该光器件及其制造方法,由此获得电的/热的/结构的稳定性,并且能够同时形成P型电极和N型电极。为了达到上述目的,所述发明的光器件包括:基于GaN的层;形成在所述基于GaN的层上的高浓度的基于GaN的层;形成在所述高浓度的基于GaN的层上的第一金属镓化合物层;形成在所述第一金属镓化合物层上的第一金属层;形成在所述第一金属层上的第三金属铝化合物层;以及形成在所述第三金属铝化合物层上的导电的氧化防护层。 | ||
申请公布号 | CN1711649B | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
申请号 | CN200380103411.3 | 申请日期 | 2003.11.17 |
申请人 | LG伊诺特有限公司 | 发明人 | 秋圣镐;张子淳 |
分类号 | H01L33/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 朱胜;李春晖 |
主权项 | 一种光器件,包括:第一P型基于GaN的层;第二P型基于GaN的层,其空穴浓度高于所述第一P型基于GaN的层的空穴的浓度,且形成在所述第一P型基于GaN的层上;第一金属‑Ga化合物层,形成在所述第二P型基于GaN的层上;第一金属层,形成在所述第一金属‑Ga化合物层上;第三金属‑Al化合物层,形成在所述第一金属层上;以及导电的防氧化层,形成在所述第三金属‑Al化合物层上。 | ||
地址 | 韩国首尔市 |