发明名称 液晶转印膜、制造液晶转印膜及双折射液晶元件的方法
摘要 本发明公开了一种液晶转印膜、制造液晶转印膜及双折射液晶元件的方法,该液晶转印膜包含软质薄膜与液晶聚合物层。液晶聚合物层位于软质薄膜的上表面上,此液晶聚合物层的相态为结晶相,且具有一非平整的顶面。本发明液晶聚合物处于向列相的时间极少,可大幅减少液晶聚合物过早热固化的情形发生。不需要将液晶聚合物粉末带入工艺环境中,因此工艺环境将不会遭到液晶聚合物粉末的污染。并且液晶转印膜可与双折射液晶元件在不同的地方制作,因此可增加制造环境设计上的弹性,并进而降低整体成本。同时,原本填入液晶聚合物所需的加热喷嘴系统将不再需要。
申请公布号 CN102135637A 申请公布日期 2011.07.27
申请号 CN201010570548.1 申请日期 2010.11.26
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 强纳森·哈洛德;葛瑞汉·约翰·伍德凯吉
分类号 G02B5/30(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;祁建国
主权项 一种液晶转印膜,其特征在于,包含:一软质薄膜,包含一上表面;以及一液晶聚合物层,位于该软质薄膜的该上表面上,其中该液晶聚合物层的相态为结晶相,且具有一非平整的顶面。
地址 中国台湾新竹市