发明名称 |
制程套组屏蔽件及其使用方法 |
摘要 |
本文提供了一种用于制程腔室中的制程套组屏蔽件以及该制程套组屏蔽件的使用方法。在一些实施例中,制程套组屏蔽件可包含具有壁的主体,该壁包含第一层以及与该第一层结合的第二层,其中,第一层包含第一材料,该第一材料能抵抗用来移除在制程过程中沉积在第一层上的材料的化学清洁剂,并且其中,第二层包含第二材料,第二材料与第一材料不相同并且具有与该第一材料基本相似的热膨胀系数。在一些实施例中,制程套组屏蔽件可以被设置在具有处理容积和非处理容积的制程腔室中。该制程套组屏蔽件可以被设置在处理容积和非处理容积之间。 |
申请公布号 |
CN102138198A |
申请公布日期 |
2011.07.27 |
申请号 |
CN200980133993.7 |
申请日期 |
2009.08.24 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
约瑟夫·F·萨默斯;基斯·A·米勒 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
柳春雷 |
主权项 |
一种制程套组屏蔽件,包含:主体,所述主体具有壁,所述壁包含第一层和与所述第一层结合的第二层,其中,所述第一层包含第一材料,所述第一材料能抵抗用来移除在制程过程中沉积在所述第一层上的材料的化学清洁剂,并且其中,所述第二层包含第二材料,所述第二材料与所述第一材料不相同并且所述第二材料具有与所述第一材料基本相似的热膨胀系数。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |