发明名称 半导体装置的制造方法
摘要 本发明涉及半导体装置的制造方法。通过在n型GaN衬底(10)上形成半导体层叠结构(12),从而形成具有多个半导体激光器(14)的晶片(16)。接着,在半导体激光器(14)间的分离区域(18)中,在晶片(16)的主面形成第1槽部(22)。接着,将晶片(16)分离为半导体激光器14排列为棒状的激光棒(26)。接着,在激光棒(26)的第1槽部(22)内,形成具有与第1槽部(22)相同或较窄的宽度的第2槽部(30)。接着,沿着第2槽部(30)将激光棒(26)分离为各个半导体激光器(14)。
申请公布号 CN102136678A 申请公布日期 2011.07.27
申请号 CN201010502122.2 申请日期 2010.09.30
申请人 三菱电机株式会社 发明人 广中美佐夫;西口晴美;藏本恭介;楠政谕
分类号 H01S5/20(2006.01)I 主分类号 H01S5/20(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 闫小龙;徐予红
主权项 一种半导体装置的制造方法,其特征在于,具备:通过在衬底上形成半导体层叠结构,从而形成具有多个半导体激光器的晶片的工序;在所述半导体激光器之间,在所述晶片的主面形成第1槽部的工序;在形成所述第1槽部之后,将所述晶片分离为所述半导体激光器排列为棒状的激光棒的工序;在所述激光棒的所述第1槽部内,形成具有与所述第1槽部相同或较窄的宽度的第2槽部的工序;以及沿着所述第2槽部将所述激光棒分离为各个所述半导体激光器的工序。
地址 日本东京都