发明名称 | 半导体器件及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种半导体器件及其制造方法,即使使用ZnO半导体膜,并且对于源电极和漏电极使用其中添加n型或p型杂质的ZnO膜也不会产生缺陷或故障。该半导体器件包含:通过使用氧化硅膜或氧氮化硅膜在栅电极之上形成的栅绝缘膜、在栅绝缘膜之上的Al膜或Al合金膜、在Al膜或Al合金膜之上的其中添加n型或p型杂质的ZnO膜、以及在其中添加n型或p型杂质的ZnO膜和栅绝缘膜之上的ZnO半导体膜。 | ||
申请公布号 | CN101577256B | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
申请号 | CN200910129860.4 | 申请日期 | 2006.11.13 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 秋元健吾 |
分类号 | G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 秦晨 |
主权项 | 一种制造液晶显示器的方法,包括:在第一衬底上形成有源矩阵部分;其中,该有源矩阵部分包括至少一个薄膜晶体管,该薄膜晶体管包括:作为沟道形成区域的含有氧化锌的半导体膜;与所述半导体膜接触的包含氧化物的导电膜;以及与所述导电膜接触的金属膜,其中所述导电膜在所述半导体膜和所述金属膜之间;在所述有源矩阵部分周围形成密封剂的闭合图案;将液晶组合物滴在所述闭合图案中;以及在滴液晶组合物之后将第一衬底和第二衬底相互附接。 | ||
地址 | 日本神奈川 |