COMPOSITION FOR POLISHING SILICON NITRIDE AND METHOD FOR CONTROLLING SELECTIVITY USING SAME
摘要
<p>본 발명의 질화 규소 연마용 조성물은, 콜로이달 실리카와, 인산계 화합물 및 황산 화합물로 이루어지는 연마조제를 포함한다. 또한 산화제를 포함함으로써, 질화 규소막의 연마 속도에 대한 금속막의 연마 속도의 비인 제1 선택비, 및 질화 규소막의 연마 속도에 대한 산화 절연막의 연마 속도의 비인 제2 선택비를 제어한다.</p>
