发明名称 喷雾狭缝式之基板清洗装置
摘要
申请公布号 TWM408119 申请公布日期 2011.07.21
申请号 TW100202719 申请日期 2011.02.14
申请人 亚智科技股份有限公司 发明人 龚棉英;李玟澄
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 洪尧顺 台北市内湖区行爱路176号3楼
主权项 一种喷雾狭缝式之基板清洗装置,其系其包含有一雾化装置,该雾化装置之内至少具有一第一流体腔室、一第二流体腔室、一分流室及一雾化作用室,该第一流体腔室与该第二流体腔室系为分隔设置且互不连通,该第一流体腔室及第二流体腔室皆设于该雾化作用室之上,该第一流体腔室具有至少一个气体注入部,该至少一个气体注入部可接设一气体供给管,该第一流体腔室与该雾化作用室之间设置有一第一流通道,该第二流体腔室具有至少一个液体注入部,该至少一个液体注入部可接设一液体供给管,该第二流体腔室与该分流室之间设有一第二流通道,其中该分流室与该雾化作用室之间设置有复数个分流孔,该雾化作用室之底端则连通于一排出通道,该排出通道的底端出口系为一喷出口。依据申请专利范围第1项所述之喷雾狭缝式之基板清洗装置,其中该雾化装置进一步设置有一中置室,该中置室系位于该第一流体腔室与该雾化作用室之间,且该中置室与该第一流通道相连通。
地址 桃园县中坜市工业区自强三路3号