| 主权项 |
一种曝光机光源装置，系包括有：一组壳罩、一光源模组、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；其中：该壳罩系具有一出光口；该光源模组，系相对安装于该组壳罩内部；该凸透镜，系相对设于该组壳罩内部之光源模组出光处，用以接收来自该光源模组的光线，并将来自该光源模组的光线转呈朝向该第一反射镜方向投射之第一光源；该第一反射镜，系相对设于该组壳罩内部，用以接收来自该凸透镜的第一光源，并将来自该凸透镜的第一光源转呈朝向该第二反射镜方向投射之第二光源；该第二反射镜，系相对设于该组壳罩内部，用以接收来自第一反射镜的第二光源，并将来自该第一反射镜的第二光源转呈朝向该组壳罩之出光口方向投射之曝光光源。如申请专利范围第1项所述之曝光机光源装置，其中该光源模组系透过一调整座安装于该组壳罩内部。如申请专利范围第1项或第2项所述之曝光机光源装置，其中该曝光机设有横向线性滑轨，而该组壳罩装设于该横向线性滑轨上。如申请专利范围第1项或第2项所述之曝光机光源装置，其中该曝光机设有横向线性滑轨以及一对平行状态配置之纵向线性滑轨，该组壳罩装设于该横向线性滑轨上，该横向线性滑轨系跨设于该对纵向线性滑轨上。如申请专利范围第1项或第2项所述之曝光机光源装置，其中该曝光机设有横向线性滑轨，而该组壳罩系透过一垂直升降滑座装设于该横向线性滑轨上。如申请专利范围第1项或第2项所述之曝光机光源装置，其中该曝光机设有横向线性滑轨，而该组壳罩系透过一垂直升降滑座装设于该横向线性滑轨上，该横向线性滑轨系跨设于该曝光机之一对纵向线性滑轨上。如申请专利范围第1项所述之曝光机光源装置，其中该曝光机设有一曝光室，而该组壳罩装设于该曝光机之曝光室中，该曝光机并设有一可相对进出该曝光室之曝光平台，而且光源装置之壳罩则设于该曝光室内部相对应于曝光平台之上方及下方位置，且该出光口系朝向曝光平台处。如申请专利范围第1、2或7项所述之曝光机光源装置，其中该出光口处可进一步盖设有一保护片。如申请专利范围第1、2或7项所述之曝光机光源装置，其中该第一反射镜可以为波型阵列反射镜或柱面反射镜。如申请专利范围第1、2或7项所述之曝光机光源装置，其中该光源模组由预定数量之发光二极体元件所组成。如申请专利范围第1、2或7项所述之曝光机光源装置，其中该光源模组由预定数量之紫外光光源所组成。一种曝光机，系包括有：一曝光室；一曝光平台，可相对进出曝光室中；一对纵向线性滑轨，呈平行状态分别配设在该曝光室之两个相对应侧；至少一横向线性滑轨，横跨于该两个纵向线性滑轨之间；至少一如专利申请范围第1项所述之光源装置，设于该至少一横向线性滑轨上，用以产生朝向该曝光平台照射之曝光光源。如申请专利范围第12项所述之曝光机，其中该光源模组系透过一调整座安装于该组壳罩内部。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该组壳罩装设于曝光机之横向线性滑轨上。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该组壳罩系透过一垂直升降滑座装设于曝光机之横向线性滑轨上。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该组壳罩系透过一垂直升降滑座装设于曝光机之横向线性滑轨上，该横向线性滑轨系跨设于曝光机之一对纵向线性滑轨上。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该出光口处可进一步盖设有一保护片。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该第一反射镜可以为波型阵列反射镜或柱面反射镜。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该光源模组由预定数量之发光二极体元件所组成。如申请专利范围第12项或第13项所述之曝光机，其中该光源模组由预定数量之紫外光光源所组成。一种曝光机，系包括有：一曝光室；一曝光平台，可相对进出曝光室中；至少一如专利申请范围第1项所述之光源装置，设于该曝光室内部相对应于曝光平台之上方及下方位置，且该出光口系朝向曝光平台处，用以产生朝向该曝光平台照射之曝光光源。如申请专利范围第21项所述之曝光机，其中该出光口处可进一步盖设有一保护片。如申请专利范围第21项所述之曝光机，其中该第一反射镜可以为波型阵列反射镜或柱面反射镜。如申请专利范围第21、22或23项所述之曝光机，其中该光源模组由预定数量之发光二极体元件所组成。如申请专利范围第21、22或23项所述之曝光机，其中该光源模组由预定数量之紫外光光源所组成。 |
