| 主权项 |
一种光阻液供给装置，系在高浓度的原料液中添加溶剂来稀释至需要的浓度，得到规定浓度之制品用光阻液，用来供给该制品用光阻液之光阻液供给装置，具备：导入部，用以导入该高浓度的原料液；混合搅拌部，用以混合搅拌已被该导入部导入之该原料液与该溶剂；以及供给部，用以供给在该混合搅拌部被混合搅拌、调整浓度所得到的制品用光阻液；在该混合搅拌部设置有调配槽，用以贮存、混合搅拌该原料液与该溶剂之混合液；该调配槽具备：注入部，用以注入该原料液与该溶剂；以及部分液循环输送部，用以抽出贮存在该调配槽内的液体之一部分并使其回流；该注入部具备注入头，用以将该原料液与该溶剂注入该调配槽；该注入头具备：该原料液的吐出口也就是原料液吐出口、及用以吐出该溶剂的至少一部分之溶剂吐出口；该注入头中的该原料液吐出口和溶剂吐出口的位置关系，是位于能藉由从该溶剂吐出口所吐出的溶剂的流动来洗涤该原料液吐出口之位置；该部分液循环输送部，具备：浓度检测器(用以检测被抽出液体中之光阻成分的浓度)及黏度检测器(用以检测被抽出液体中之光阻成分的黏度)中的至少一方；以及流量调整器，用以基于该等浓度检测器及黏度检测器中的至少一方之检测值，来进行调整该注入部中的该原料液及该溶剂的注入分量；该供给部具备有制品用光阻液缓冲槽，用以收容该调配槽内的制品用光阻液(已经藉由该流量调整器而被稀释控制在所需要的浓度)，并贮存一定期间。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该调配槽系设置复数个。如申请专利范围第1或2项之光阻液供给装置，其中该调配槽具备：第1调配槽，用以粗略地调整光阻液的浓度；以及第2调配槽，用以精确地调整已经在第1调配槽被调整过的光阻液的浓度。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该浓度检测器系音波分析器及近红外线分析器中的至少一方。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该导入部具备：原料液导入线路，用以将原料液导入该调配槽；以及溶剂导入线路，用以将溶剂导入该调配槽；该流量调整器系控制该原料液导入线路及该溶剂导入线路中的至少一方的液体流量。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该制品用光阻液缓冲槽，系贮存比1天的使用量更大量之制品用光阻液。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中通过管路直接供给该制品用光阻液至使用该制品用光阻液来制造光阻膜之制造设备中。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该原料液之固体成分浓度为30%以上50%以下。如申请专利范围第8项之光阻液供给装置，其中该制品用光阻液之固体成分浓度为10%以上30%以下。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该溶剂包含：在使用规定的光阻液之制程中所产生的废液及在洗涤光阻液制造装置之制程中所产生的废液中的至少一方。如申请专利范围第10项之光阻液供给装置，其中在使用规定的光阻液之制程中所产生的废液，系在由规定的光阻液来形成光阻膜之光阻膜制程中所产生的废液。如申请专利范围第10或11项之光阻液供给装置，其中在使用规定的光阻液之制程中所产生的废液，系在狭缝涂布制程中所产生的废液及在狭缝涂布头之洗涤制程中所产生的废液中的至少一方。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该制品用光阻液缓冲槽系能够移动的槽。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中具备复数该制品用光阻液缓冲槽；而要被直接连接于该混合搅拌部之光阻液缓冲槽，系能够移动的槽。如申请专利范围第13或14项之光阻液供给装置，其中该能够移动的槽系具备能够密封该制品用光阻液的空间之车辆。如申请专利范围第1项之光阻液供给装置，其中该制品用光阻液系使用于制造液晶显示器。一种改造套件，系用以改造显像液稀释装置，来制造如申请专利范围第5项之光阻液供给装置之改造套件，其中具备一组组件，该组件至少包含：铁管，其能够使用于该原料液导入线路及该溶剂导入线路中的至少一方；浓度检测器(用以检测液体中的光阻成分的浓度)与黏度检测器(用以检测液体中的光阻成分的黏度)中的至少一方，这些检测器可装设在从该调配槽抽出一部分液体然后使其回流之线路上；以及过滤器，适合过滤制品用光阻液；该一组组件中，更具备：注入头，用以将原料液与溶剂注入该调配槽；该注入头具备：该原料液的吐出口也就是原料液吐出口、及用以吐出该溶剂的至少一部分之溶剂吐出口；该注入头中的该原料液吐出口和溶剂吐出口的位置关系，是位于能藉由该溶剂吐出口所吐出的溶剂的流动来洗涤该原料液吐出口之位置。一种将显像液稀释装置转换成光阻液供给装置之方法，系使用如申请专利范围第17项之改造套件。 |
