发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.07.21
申请号 TW093128296 申请日期 2004.09.17
申请人 ASML公司 发明人 巴帝安 兰博特 威廉玛 玛里纳 范 戴 凡;爱立克 里诺达斯 汉姆
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影装置,包括:一照明系统,用于提供一辐射投影光束;一支撑结构,用于支撑图案化结构,该图案化结构系用于使该投影光束的横断面具有一图案;一基板台,用于一支撑一基板;一投影系统,用于将该图案化光束投射在该基板的一目标部位上;一粒子密封储存容器,其界定一用于容纳至少一图案化结构之储存空间,其中该储存容器被布置成耦合一非真空相容的转移容器,该转移容器会通过一介于该转移容器与该储存容器之间的可封闭通路来调换图案化结构,且该储存容器被建构并布置成耦合该转移容器,致使该储存容器之一第一遮板之一部分与该转移容器之一第二遮板之一部分以一粒子密封连接方式耦联,以被同时移动至该储存空间;以及一真空室,用于经由或从该储存容器来容纳图案化构件。如请求项1之微影装置,其中该转移容器是粒子密封式。如请求项1之微影装置,其中该储存容器被建构并布置成耦合该转移容器,致使该储存容器之一第一遮板之一部分与该转移容器之一第二遮板之一部分以一粒子密封对齐连接方式耦联,以被同时移动至该储存空间。如请求项1之微影装置,其中该微影装置进一步包括一用于从该真空室排出空气之真空帮浦。如请求项1之微影装置,其中该微影装置进一步包括一另外之真空室,该另外之真空室经由一可真空封闭之通路而流动连通该真空室,并且该微影装置包括一用于通过该通路来转移图案化结构的转移构件。如请求项1之微影装置,其中该第一遮板与该第二遮板中至少一遮板被布置成支撑该图案化结构。如请求项6之微影装置,其中在移动该图案化结构至该储存空间中过程中,各自遮板的各自外部部分会在该储存空间的外部移动,并且仅限于各自遮板的各自内部部分会连同该图案化结构一起移动至该储存空间中。如请求项1之微影装置,其中该微影装置进一步包括一固持器,用于当该图案化结构移动至该储存空间内部时固持该图案化结构。如请求项1之微影装置,其中该微影装置进一步包括一多个可滑动式壁,藉此形成该真空室壁。一种元件制造方法,包括:沿着一微影装置之一外部部位,在一粒子密封转移位置连接一实质上粒子密封之非真空相容的转移容器;将图案化结构从该转移容器转移至该微影装置的一实质上粒子密封之非真空储存空间中;将该图案化结构从该储存空间转移至一真空室;使用一辐射光束来照明该经转移之图案化结构,藉此形成一图案化之辐射光束;以及将该图案化之辐射光束投射在一基板的一目标部位上。如请求项10之元件制造方法,进一步包括:抽吸该真空室以产生一实质上真空环境;在实质上真空状态中,将该图案化结构从该真空室转移至一另外之真空室,其中该图案化结构被置放在该另外之真空室的一照明位置,藉此形成该图案化之光束。
地址 荷兰