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一种降低源自流体化催化裂解单元(FCCU)再生区之废气中气相还原氮种类含量之方法，该方法包括在催化裂解条件下，将气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物以足以降低存在于废气中之气相还原氮种类含量(相对于存在于无氧化性触媒/添加剂组成物之废气中之气相还原氮种类之含量)之量，接触在FCC法时自部份或不完全燃烧模式操作之FCCU再生区所排放之再生区废气所含之气相还原氮种类，其中该氧化性触媒/添加剂组成物具有约50至200微米之平均粒度，及具有在催化裂解条件下将废气中之气相还原氮种类氧化成分子氮之能力，及该氧化性触媒/添加剂组成物系随循环之累积催化裂解触媒，在全部FCCU循环。如申请专利范围第1项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在FCCU再生区中之停留时间相对于其在累积裂解触媒之停留时间，系与累积催化裂解触媒为实质上相同的。如申请专利范围第2项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在FCCU再生区中之停留时间相对于其在累积裂解触媒之停留时间为相同。如申请专利范围第1项之方法，其进一步包括将该具有降低气相还原氮种类含量之再生区废气送至CO锅炉，及将具有降低NOx排放含量之废气排放至大气中。如申请专利范围第1项之方法，其中气相还原氮种类包括氨。如申请专利范围第1项之方法，其中气相还原氮种类包括氰化氢。如申请专利范围第4项之方法，其中CO锅炉为低NOxCO锅炉。一种降低源自流体化催化裂解单元(FCCU)再生区之废气中气相还原氮种类含量之方法，该方法包括将气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物以足以降低存在于废气中之气相还原氮种类含量(相对于存在于无氧化性触媒/添加剂组成物之废气中之气相还原氮种类之含量)之量，接触来自FCCU再生器之含气相还原氮种类之废气，该氧化性触媒/添加剂组成物系随累积之裂解触媒在全部FCCU循环，而且具有在催化裂解条件下将废气中之气相还原氮种类氧化成分子氮之能力。如申请专利范围第8项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物系随在全部FCCU同时累积之裂解触媒循环。如申请专利范围第8项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在FCCU再生器中之停留时间相对于其在累积裂解触媒之停留时间系实质上相同。如申请专利范围第8项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在FCCU再生器中之停留时间相对于其在累积裂解触媒之停留时间系相同。如申请专利范围第8项之方法，其进一步包括将该具有降低气相还原氮种类含量之再生区废气送至CO锅炉，及将具有降低NOx排放含量之废气排放至大气中。如申请专利范围第12项之方法，其中CO锅炉为低NOxCO锅炉。如申请专利范围第8项之方法，其中气相还原氮种类包括氨。如申请专利范围第8项之方法，其中气相还原氮种类包括氰化氢。一种在以部份或不完全燃烧模式下操作触媒再生区时在烃进料成为低分子量成分之催化裂解时降低NOx排放之方法，该方法包括(a)以气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物接触在催化裂解单元中循环之累积裂解触媒，(b)使累积裂解触媒与氧化性触媒/添加剂组成物在全部流体化催化裂解单元，于以部份或不完全燃烧模式下操作之烃裂解区与触媒再生区之间循环，以接触含气相还原氮种类之再生区废气，而提供具有降低之气相还原氮种类含量之再生区废气(相对于存在于无氧化性触媒/添加剂组成物之再生区废气)，(c)在该再生区下游提供CO锅炉，该CO锅炉系以有效地氧化再生区废气之方式操作，及(d)将再生区废气送至CO锅炉而将具降低NOx含量之废气送至大气中。如申请专利范围第16项之方法，其中将该再生区废气送至分离装置，其中该裂解触媒及氧化性触媒/添加剂组成物在通过CO锅炉前于该分离装置中分离。如申请专利范围第16项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物以有效地减少再生区废气中之气相还原氮种类含量之量，接触再生区废气。如申请专利范围第16项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物包括具有足以使触媒/添加剂组成物随累积之裂解触媒同时在全部催化裂解单元循环之粒度之颗粒。如申请专利范围第16项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在再生区中之停留时间相对于累积裂解触媒在再生区中之停留时间，为实质上相同。如申请专利范围第16项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物在再生区中之停留时间相对于裂解触媒在再生区中之停留时间为相同。如申请专利范围第19项之方法，其中氧化性触媒/添加剂组成物具有约50至约200微米之平均粒度。如申请专利范围第16项之方法，其中催化裂解法为流体化催化裂解法。如申请专利范围第16项之方法，其中气相还原氮种类包括氨。如申请专利范围第16项之方法，其中气相还原氮种类包括氰化氢。如申请专利范围第16或17项之方法，其中CO锅炉为低NOxCO锅炉。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物包括(a)至少1重量%之实质上不含沸石之酸性金属氧化物(测为氧化物)；(b)至少0.5重量%之金属成分(测为氧化物)，其系选自硷金属、硷土金属、及其混合物；(c)至少0.1重量%之稀土或过渡金属储氧金属氧化物成分(测为氧化物)；及(d)至少0.1 ppm之贵重金属成分(测为金属)，其系选自Pt、Pd、Rh、Ir、Os、Ru、Re、及其混合物，所有之百分比均以氧化性触媒/添加剂组成物之总重量计。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物包括(1)酸性氧化物撑体；(2)约1-10重量份(测为金属氧化物)之至少一种硷金属、硷土金属或其混合物；(3)至少1重量份之CeO2；及(4)约0.01-5.0重量份(测为金属氧化物)之Cu或Ag，成分(2)-(4)之所有该重量份系以每100重量份该酸性金属氧化物撑体材料计。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物包括至少一种含金属尖晶石，其包括第一金属及具有高于该第一金属价数之价数之第二金属、至少一种该第一与第二金属以外之第三金属成分、及至少一种该第一、第二与第三金属以外之第四金属成分，其中该第三金属系选自第Ib族金属、第IIB族金属、第VIA族金属、稀土金属、铂族金属、及其混合物，而且该第四金属系选自铁、镍、钛、铬、锰、钴、锗、锡、铋、钼、锑、钒、及其混合物。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物包括(1)含至少50重量%氧化铝之酸性氧化物撑体；(2)1-10重量%(测为金属氧化物)之硷金属、硷土金属或其混合物；(3)至少1重量%之CeO2；及(4)0.01-5.0重量%之钯，成分(2)-(4)之所有该重量份系以每100重量份该酸性金属氧化物撑体材料计。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物为与催化裂解触媒分离之添加剂颗粒。如申请专利范围第1、8或16项中任一项之方法，其中气相还原氮种类氧化性触媒/添加剂组成物系整合至催化裂解触媒中成为其成分。 |
