发明名称 检测图案之方法与装置
摘要
申请公布号 TWI345633 申请公布日期 2011.07.21
申请号 TW096120489 申请日期 2007.06.07
申请人 电气股份有限公司 发明人 森部英征
分类号 G01N21/956;G03F1/08 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 一种检测图案的装置,包括:一光源,其发射一光束;一聚光器,其将光束集中在图案上以形成一光点;一扫瞄单元,其使用光点扫瞄图案;一分光器,其将从图案上之光点的一位置反射的光束分开成在第一光学路径上的第一反射光束及在第二光学路径上的第二反射光束;一反射感测单元,其接收第一反射光束并输出第一光强度讯号;一像散感测单元,其经由像散法接收第二反射光束并输出第二光强度讯号,其中第二光强度讯号表示第二反射光束的相位之分布;及一影像处理单元,其基于第一光强度讯号及第二光强度讯号输出表示图案之检测结果的一检测影像讯号。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中图案包括:一光阻隔图案,由被排列在基底的一表面上之光阻隔膜形成;或是一半透明图案,由被排列在基底的一表面上之半透明光阻隔膜形成。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中图案包括移相器,其被排列在基底的一表面上。如申请专利范围第2项之检测图案的装置,其中图案包括移相器,其被排列在基底的一表面上。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中影像处理单元基于第一光强度讯号及第二光强度讯号间的差值讯号输出检测影像讯号。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,更包括:一穿透光感测单元,其输出被施加至图案以做为光点且穿透该处之穿透光的光强度讯号。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中光源系一雷射光源。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中像散感测单元包括:一像散产生光学系统,其包括一柱面透镜;位置感测器及讯号计算单元,其执行由位置感测器感测之讯号的计算以输出第二光强度讯号。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中像散感测单元包括一分光器,其将在第二光学路径上的反射光束分割成在第三光学路径上的光及在第四光学路径上的光;一第一像散产生光学系统,包括一柱面透镜及第一位置感测器,其均被提供在第三光学路径上;一第二像散产生光学系统,包括一柱面透镜及第二位置感测器,其均被提供在第四光学路径上;一讯号计算单元,其执行由第一及第二位置感测器感测的讯号之计算以输出第二光强度讯号。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中影像处理单元包括一储存装置,其储存表示第一图案的检测结果之第一检测影像讯号;及影像处理单元输出在表示第二图案之检测结果的第二检测影像讯号与第一检测影像讯号之间的比较结果。如申请专利范围第1项之检测图案的装置,其中影像处理单元包括一储存装置,其储存基于第一图案的设计资料库被计算的第一检测影像讯号;及影像处理单元输出在表示第二图案之检测结果的第二检测影像讯号与第一检测影像讯号之间的比较结果。一种检测图案的方法,包括:使用将来自一光源的光束集中在其上的光点扫瞄图案;将从在图案上之光点的一位置反射的光束分开成在第一光学路径的第一反射光束及在第二光学路径的第二反射光束;感测第一反射光束的第一光强度讯号;经由像散法从第二反射光束感测第二光强度讯号,其中第二光强度讯号表示第二反射光束的相位之分布;及基于第一光强度讯号及第二光强度讯号输出表示图案之检测结果的一检测影像讯号。如申请专利范围第12项之检测图案的方法,其中图案包括:一光阻隔图案,由被排列在基底的一表面上之光阻隔膜形成;或是一半透明图案,由被排列在基底的一表面上之半透明光阻隔膜形成。如申请专利范围第12项之检测图案的方法,其中图案包括移相器,其被排列在基底的一表面上。如申请专利范围第13项之检测图案的方法,其中图案包括移相器,其被排列在基底的一表面上。如申请专利范围第12项之检测图案的方法,其中检测影像讯号系基于第一光强度讯号及第二光强度讯号间的差值讯号被输出。如申请专利范围第14项之检测图案的方法,其中检测影像讯号系基于第一光强度讯号及第二光强度讯号间的差值讯号被输出。如申请专利范围第12项之检测图案的方法,更包括:储存表示第一图案的检测结果之第一检测影像讯号;及比较第一检测影像讯号与第二检测影像讯号,其表示第二图案之检测结果。如申请专利范围第12项之检测图案的方法,更包括:储存基于第一图案的设计资料库被计算的第一检测影像讯号;及比较第一检测影像讯号与第二检测影像讯号,其表示第二图案之检测结果。
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