| 主权项 |
一种光学建构物，其包括：一第一光学层；在该第一光学层之一主表面之至少一部分上的一静电消散层，其中该静电消散层包含一导电聚合物；及一安置于该等静电消散层上之第二光学层，其中该等第一及第二光学层是非静电消散性，且其中该建构物具有大于90%之光透射率及大于1×1013欧姆/平方之表面电阻率。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层厚度大于2微米。如请求项1之光学建构物，其中该静电消散层与该等第一及第二光学层中之至少一层接触。如请求项1之光学建构物，其中该建构物展现小于2秒之静电衰减时间。如请求项1之光学建构物，其中该建构物展现小于约0.5秒之静电衰减时间。如请求项1之光学建构物，其中该建构物展现小于约0.1秒之静电衰减时间。如请求项1之光学建构物，其中该静电消散层进一步包括一黏合剂。如请求项7之光学建构物，其中该黏合剂包括一选自由丙烯酸酯、三聚氰胺、胺基甲酸酯及其组合组成之群的材料。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层为一薄膜，其包括选自由以下各物组成之群之一材料：聚氯乙烯、聚乙烯、聚对萘二酸乙二酯(polyethylene naphthalate)、聚胺基甲酸酯、聚乙烯丙烯酸、聚丙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚偏氟乙烯、聚醚、聚醯亚胺、聚醯胺及其掺合物。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层为可硬化树脂。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层包括一微型结构表面。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层包括一多层薄膜。如请求项1之光学建构物，其中该等第一及第二光学层中之至少一层为选自由以下各物组成之群的一材料：偏光器、扩散器、反射器、有色薄膜、镜、带遮光罩之光学薄膜及亮度增强薄膜。如请求项1之光学建构物，其中该静电消散层为一导电涂层。如请求项14之光学建构物，其中该涂层具有至少为2奈米之乾燥厚度。如请求项14之光学建构物，其中该导电涂层为一黏着剂。如请求项1之光学建构物，其进一步包括至少一个额外光学层，该光学层与该等第一及第二光学层中至少一层之一主表面接触。一种光学装置，其包括如请求项1之光学建构物。一种显示物品，其包括如请求项1之光学建构物。一种电脑，其包括如请求项19之显示物品。如请求项1之光学建构物，其中该导电聚合物包含聚噻吩。一种光学建构物，其包括：一光学薄膜；一施加至该光学薄膜之一主表面之静电消散涂层，该静电消散涂层包括一导电聚合物及一黏合剂；及与该静电消散涂层接触之一光学层；其中该光学薄膜及该光学层皆为非静电消散性且该光学建构物具有大于1×1013欧姆/平方之表面电阻率。如请求项22之光学建构物，其中该光学薄膜及该光学层中之至少一个为一反射偏光薄膜。如请求项22之光学建构物，其中该导电聚合物包含聚噻吩，且该黏合剂系选自由丙烯酸酯、三聚氰胺、胺基甲酸酯及其组合组成之群。如请求项24之光学建构物，其中该黏合剂为胺基甲酸酯。一种光学建构物，其包括：至少两个光学及非静电消散层；及其间之一静电消散层，其中该静电消散层包含一导电聚合物及一黏合剂，且其中该光学建构物具有大于1×1013欧姆/平方之表面电阻率且其中该光学建构物具有大于92%之光透射率。如请求项26之光学建构物，其中该导电聚合物包含聚噻吩，且该黏合剂为胺基甲酸酯。一种制造一静电消散光学建构物之方法，其包括：提供一非静电消散光学基板；在该非静电消散光学基板之一主表面上施加静电消散组合物，其中该组合物包括一导电聚合物；及将一非静电消散层安置于该静电消散组合物上，其中该建构物具有大于90%之光透射率及大于1×1013欧姆/平方之表面电阻率。如请求项28之方法，其进一步包括：施加一底涂剂至该等非静电消散光学基板之主表面之至少一部分。如请求项28之方法，其进一步包括形成一微型结构表面。如请求项28之方法，其中该建构物展现小于2秒之静电衰减时间。如请求项28之方法，其中该建构物展现小于约0.5秒之静电衰减时间。如请求项28之方法，其中该建构物展现小于约0.1秒之静电衰减时间。如请求项28之方法，其中该静电消散组合物进一步包括一黏合剂。如请求项34之方法，其中该黏合剂包括一选自由丙烯酸酯、三聚氰胺、胺基甲酸酯及其组合组成之群的材料。如请求项28之方法，其中该非静电消散光学基板及该非静电消散层中之至少一者为一薄膜，其包含选自由以下各物组成之群之一材料：聚氯乙烯、聚乙烯、聚对萘二酸乙二酯(polyethylene naphthalate)、聚胺基甲酸酯、聚乙烯丙烯酸、聚丙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚偏氟乙烯、聚醚、聚醯亚胺、聚醯胺及其掺合物。如请求项28之方法，其中该非静电消散光学基板及该非静电消散层中之至少一者为可硬化树脂。如请求项28之方法，其中该非静电消散光学基板及该非静电消散层中之至少一者包括一微型结构表面。如请求项28之方法，其中该非静电消散光学基板及该非静电消散层中之至少一者包括一多层薄膜。如请求项28之方法，其中该非静电消散光学基板及该非静电消散层中之至少一者为选自由以下各物组成之群的一材料：偏光器、扩散器、反射器、有色薄膜、镜、带遮光罩之光学薄膜及亮度增强薄膜。如请求项28之方法，其中该静电消散层为一导电涂层。如请求项41之方法，其中该涂层具有至少为2奈米之乾燥厚度。如请求项41之方法，其中该导电涂层为一黏着剂。如请求项28之方法，其进一步包括至少一个额外光学层，该光学层与该非静电消散光学基板及该非静电消散层之一主表面接触。 |
