| 主权项 |
一种蒸镀装置，其系具备：接地之真空容器；支持于该真空容器内之基板保持具；可保持于该基板保持具之基板；离开该基板既定距离并与该基板相对向之蒸镀机构；对该基板照射离子之离子枪；与对该基板照射电子之中和器；其特征在于：于该真空容器具备对该真空容器呈电气悬浮之内壁，该中和器系配置于该真空容器之侧面侧，并且该离子枪系以离子照射口与该基板呈相对向之状态配置于该真空容器内部当中之配置有该基板保持具侧之相反侧，该中和器与该离子枪系相隔既定距离配置，该内壁形成有开口区域，且该内壁之内侧面系经绝缘性之陶瓷涂敷，该中和器系以不与该内壁电气接触之状态配置于该开口区域的内侧。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，于该离子枪之离子照射口朝向该基板保持具之位置具备用以控制离子照射范围的照射离子导引构件，该照射离子导引构件为筒状，且系以缩小由该离子照射口所照射之离子扩散范围的方式配置，并且做成对该真空容器呈电气悬浮。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，于该中和器之电子照射口朝向该基板保持具之位置具备用以控制电子照射范围的照射电子导引构件，该照射电子导引构件为筒状，且系以缩小由该电子照射口所照射之电子扩散范围的方式配置，并且做成对该真空容器呈电气悬浮。一种薄膜元件之制造方法，其特征在于，系使用具备下述构成之蒸镀装置：接地并具备对容器本身呈电气悬浮且形成有开口区域并且内侧面经绝缘性陶瓷涂敷之内壁之真空容器；支持于该真空容器内之基板保持具；可保持于该基板保持具之基板；离开该基板既定距离并与该基板相对向之蒸镀机构、以离子照射口面对该基板之状态配置于该真空容器内部中之基板保持具配置侧之相反侧、用以对该基板照射离子之离子枪；与该离子枪相隔既定距离配置，且配置于该真空容器之侧面侧、并且以不与该内壁电气接触之状态配置于该开口区域的内侧之用以对该基板照射电子之中和器；与分别配置于该蒸镀机构之蒸镀物质照射口及该离子枪之离子照射口附近的快门；并进行下述步骤：于该基板保持具配置该基板之配置步骤；使该基板保持具以既定转数旋转，将该真空容器内之压力设定于既定值，并将该基板温度加温至既定温度之设定步骤；使该离子枪及该蒸镀机构为待机状态之准备步骤；与藉由开启该快门使该蒸镀物质照射至该基板之蒸镀步骤；于该蒸镀步骤中，从该离子枪朝该基板照射离子，从配置成靠近该基板保持具且离开该离子枪既定距离之该中和器朝该基板照射电子。 |
