| 主权项 |
一种用于清洗光学元件之清洗治具，其改进在于，包括：一个盖体，该盖体开设多个第一通孔，该多个第一通孔呈蜂窝状排列分布在该盖体上；及一个本体，该本体开设有与多个第一通孔相对应之多个第二通孔，该多个第二通孔呈蜂窝状排列在该本体上，每个第二通孔具有一个第一开口与一个第二开口，盖体与本体配合时，第一开口较第二开口更接近该盖体，且每个第二通孔沿平行于该第二通孔轴向方向之截面为阶梯形状，可使盖体与本体配合清洗时，于治具中形成多个用于收容光学元件之收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该光学元件从第一通孔或第二通孔之第二开口脱落。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之第一通孔沿垂直于该第一通孔轴向方向之截面为圆形。如申请专利范围第2项所述之清洗治具，其中，所述之第二通孔沿垂直于该第二通孔轴向方向之截面为圆形。如申请专利范围第3项所述之清洗治具，其中，所述之第二通孔之孔壁至少具有一个位于第一开口与第二开口之间之环状突出支撑部，该支撑部与第二开口之间之第二通孔部分呈倒漏斗状。如申请专利范围第1或4项所述之清洗治具，其中，所述之第一通孔呈漏斗状，该第一通孔具有一个第三开口及一个与第三开口相对且位于漏斗状第一通孔底部之第四开口，盖体与本体配合时，该第四开口与第一开口相接，使该支撑部与盖体间形成该收容空间。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之第一开口与第二开口为同心开设在本体上。如申请专利范围第6项所述之清洗治具，其中，所述之盖体与本体配合时，第一通孔与第二通孔同心开设在该治具上。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之盖体进一步包括位于其四个角落之四个第一螺孔，及所述本体进一步包括四个与该四个第一螺孔相对应之第二螺孔。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之治具进一步包括另一个相同之本体，当该两个本体与盖体配合时，该两个本体之第二通孔与第一通孔为同心开设在治具上。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之治具包括至少一个夹子，以将盖体与本体配合在一起来固定盖体与本体之相对位置。 |
