| 发明名称 |
A REMOTE PLASMA CLEAN PROCESS WITH CYCLED HIGH AND LOW PRESSURE CLEAN STEPS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20110084265(A) |
申请公布日期 |
2011.07.21 |
| 申请号 |
KR20117011608 |
申请日期 |
2009.10.07 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
HUA ZHONG QIANG;KAMATH SANJAY;LEE YOUNG S.;YIEH ELLIE Y.;LE HIEN MINH HUU;PATEL ANJANA M.;GONDHALEKAR SUDHIR R. |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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