| 摘要 |
Verfahren zum Bestimmen einer polarisationsoptischen Eigenschaft eines Beleuchtungssystems (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10), wobei die Projektionsbelichtungsanlage aufweist: – einen verstellbaren Polarisator (20), – eine von dem Beleuchtungssystem (12) ausleuchtbare Maskenebene (18) und – ein Projektionsobjektiv (24), das die Maskenebene (18) auf eine Bildebene (26) abbildet und einen polarisationsabhängigen Transmissionsgrad hat, gekennzeichnet durch folgende Schritte: a) Bestimmen der Transmissionsgrade des Projektionsobjektivs (24) für eine erste und eine zweite dazu orthogonale Polarisationsrichtung; b) Einstellen der ersten Polarisationsrichtung vor oder in der Maskenebene (18) unter Verwendung des Polarisators (20); c) Messen einer ersten Intensität in der Bildebene (26) des Projektionsobjektivs; d) Einstellen der zweiten Polarisationsrichtung vor oder in der Maskenebene (18) unter Verwendung des Polarisators (20); e) Messen einer zweiten Intensität in der Bildebene (26) des Projektionsobjektivs (24); f) Bestimmen des Anteils von Licht, der in der Maskenebene (18) entlang der von dem...
|
