发明名称 二极管及其制造方法
摘要 本发明公开了一种二极管,基于NPN型三极管设计而成,其中NPN型三极管的下方具有n型埋层,作为所述NPN型三极管与p型衬底之间的隔离。并且所述NPN型三极管的发射极和基极的下方还具有p型埋层,防止所述NPN型三极管的n型发射极与n型埋层之间穿通。所述NPN型三极管的发射极作为二极管的阴极,将所述NPN型三极管的基极和集电极短接作为二极管的阳极。本发明也可基于PNP型三极管设计。本发明还公开了所述二极管的制造方法。本发明所述二极管具有几乎不漏电、击穿电压大的特点,能够承受高压,可以应用于高压环境。同时其制造方法也具有简单、便利的特点。
申请公布号 CN102130120A 申请公布日期 2011.07.20
申请号 CN201010027327.X 申请日期 2010.01.20
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 张帅;王海军
分类号 H01L27/07(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L27/07(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 陈履忠
主权项 一种二极管,其特征是,p型衬底(20)中具有n型埋层(21)和p型埋层(22),部分n型埋层(21)之上具有p型埋层(23),三个埋层之上为n型外延层(24);在n型外延层(24)中具有高压p阱(251)、高压n阱(252)和高压p阱(253);其中高压p阱(251)的底部与p型埋层(23)相接触,高压p阱(253)的底部与p型埋层(22)相接触;在高压p阱(251)中有低压n阱(271);在高压n阱(252)中有低压n阱(272);在高压p阱(253)中有低压p阱(273);在低压n阱(271)中有重掺杂n阱(281),在高压p阱(251)中有重掺杂p阱(282),在低压n阱(272)中有重掺杂n阱(283),在低压p阱(273)中有重掺杂p阱(284);低压n阱(271)、重掺杂p阱(282)、低压n阱(273)之间有隔离结构(26),高压n阱(252)和高压p阱(253)之间有隔离结构(26);所述重掺杂n阱(281)作为二极管的阴极,所述重掺杂p阱(282)和重掺杂n阱(283)相连接作为二极管的阳极。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号