发明名称 一种研究金属薄膜断裂性能的方法
摘要 本发明涉及力学性能测试技术领域,一种研究金属薄膜断裂性能的方法,取衬底(2)为脆性材料,同一组衬底(2)的尺寸相同,长宽比不小于2∶1,衬底(2)的厚度与薄膜(1)的厚度之比不小于100∶1;衬底(2)非薄膜生长面的中间预设一条缺口(2a),衬底(2)在薄膜(1)生长前正反面清洗干净,去除油污灰尘,并保证用于生长薄膜(1)的衬底(2)面的表面平整光滑;在不改变衬底(2)形状和性能的条件下,以适用的方式在衬底(2)上生长薄膜(1);在衬底(2)两端各去除部分薄膜(1),作为夹持和载荷作用区域,施加静载荷直至衬底(2)断裂;在保持断面完整无污染条件下,以适用的电镜微观分析。本发明降低了基体和夹层之间变形的失配;具有动载荷,变形断裂速度快,且能够使薄膜沿特定方向断裂的特点。
申请公布号 CN102128751A 申请公布日期 2011.07.20
申请号 CN201010593748.9 申请日期 2010.12.17
申请人 上海工程技术大学 发明人 刘延辉;周细应;马春伟
分类号 G01N3/14(2006.01)I 主分类号 G01N3/14(2006.01)I
代理机构 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人 季申清
主权项 一种研究金属薄膜断裂性能的方法,其特征在于:取薄膜生长的衬底(2)为脆性材料,同一组测试样品衬底(2)的尺寸相同,衬底(2)的长宽比应不小于2∶1,衬底(2)的厚度与薄膜(1)的厚度之比不小于100∶1;衬底(2)非薄膜生长面的中间预设一条缺口(2a),缺口(2a)尺寸相对于衬底(2)尺寸可忽略,同一组测试样品制备缺口(2a)的工艺及参数完全一致;衬底(2)在薄膜(1)生长前正反面清洗干净,去除油污灰尘,并保证用于生长薄膜(1)的衬底(2)面的表面平整光滑;在不改变衬底(2)形状和性能的条件下,以适用的方式在衬底(2)上生长薄膜(1);在衬底(2)两端各去除部分薄膜(1),作为夹持和载荷作用区域,施加静载荷直至衬底(2)断裂;在保持断面完整无污染条件下,以适用的电镜微观分析。
地址 200336 上海市长宁区仙霞路350号