| 发明名称 | 正性工作平版印刷版前体的加工 | ||
| 摘要 | 可以使用包括至少0.03N有机胺或其混合物的处理溶液成像和加工正性工作可成像元件，所述有机胺或其混合物的共轭酸具有大于9的pKa和大于150℃的沸点。该可成像元件为单层红外辐射敏感正性工作可成像元件，其包括基材和红外辐射吸收化合物。其还具有包括显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)的可成像层，其中聚(乙烯醇缩醛)重复单元的至少25mol%包括用一个或多个吸电子基取代的侧挂苯酚、萘酚或蒽酚基团。 | ||
| 申请公布号 | CN102132217A | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN200980132473.4 | 申请日期 | 2009.08.19 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | M·勒瓦农;M·纳卡什;T·科特塞尔 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/033(2006.01)I;B41C1/10(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 范赤;李连涛 |
| 主权项 | 一种使元件成像的方法，包括：A) 成像曝光红外辐射敏感的正性工作可成像元件，所述可成像元件包括具有亲水性表面和红外辐射吸收化合物的基材，和在所述亲水性表面上具有包括显影性增强化合物和聚(乙烯醇缩醛)的可成像层，其中聚(乙烯醇缩醛)重复单元的至少25 mol%包括用一个或多个吸电子基取代的侧挂苯酚、萘酚或蒽酚基团，在所述可成像层中提供已曝光和未曝光区域，和B) 向所述已成像曝光的可成像元件施涂处理溶液，去除所述可成像层，由此主要仅在所述已曝光区域中显露所述亲水性表面，其中所述处理溶液包括至少0.03 N有机胺或其混合物，所述有机胺或其混合物的共轭酸具有大于9的pKa和大于150℃的沸点。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||