| 发明名称 | 辐射系统和包括辐射系统的光刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。 | ||
| 申请公布号 | CN101583909B | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN200780035599.0 | 申请日期 | 2007.09.25 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | M·M·J·W·范赫彭;V·Y·拜尼恩;J·C·L·弗兰肯;O·W·V·弗吉恩斯;D·J·W·克朗德尔;N·M·德里森;W·A·索尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置，所述光学传感器装置包括：光学传感器，所述光学传感器包括传感器表面；和去除机构，所述去除机构构造用于从所述传感器表面去除碎片，其中所述传感器表面包括可旋转板的表面部分，并且所述去除机构配置成从所述板的另一部分去除碎片。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||