基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

主权项

一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，该曝光装置通过浸液法进行基板的曝光处理，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接；上述处理部包括在基板上涂敷抗蚀剂液的第一处理单元，上述交接部包括：第二处理单元，其在上述曝光装置的曝光处理之前，使用清洗液对由上述第一处理单元涂敷了抗蚀剂液的基板的表面进行清洗，以使抗蚀剂中的成分的一部分稀出到所述清洗液中；搬送装置，其在上述处理部、上述曝光装置以及上述第二处理单元之间搬送基板，上述搬送装置包括对上述曝光装置进行基板的交接的搬送机构，上述搬送机构包括：第一保持部，其保持并搬送由上述曝光装置进行曝光处理之前的基板；第二保持部，其保持并搬送由上述曝光装置进行曝光处理之后的基板。