一种荷正电纳滤膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种荷正电纳滤膜的制备方法。本发明是由多孔支撑层和含有阳离子和羟基两种功能基团的共聚物为功能层组成的；其制备过程为：首先通过自由基共聚反应得到功能性共聚物，再把共聚物配成一定浓度的水溶液，将其涂覆在支撑层上并干燥；然后将其浸入到含交联剂的溶液中，最后加热固化得荷正电纳滤膜。荷正电纳滤膜在0.6MPa的操作压力下，其水通量为12～18L/m2.h；对二价阳离子显示了很高的截留率，一般为75～95％；对一价阳离子的截留率一般低于65％。所制备的荷正电纳滤膜分离性能优良，所采用的制膜方法简单易行、成本低廉，易于工业化生产。

主权项

一种荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于包含如下步骤：1)将2～5质量份的含有叔胺基团的单体和1质量份的丙烯酸羟烷酯单体加入水中，配成质量百分比浓度为10～30wt％的水溶液，通入氮气，加入质量百分比浓度为1～3wt％的水溶性氧化‑还原引发剂，在35～45℃下进行溶液聚合，聚合时间8～24时，用丙酮将聚合物沉淀，多次洗涤后，得共聚物，真空干燥后备用；2)将0.5～2质量份的共聚物加入水中溶解得到聚合物水溶液，在20～30℃的温度和55～65％的空气相对湿度条件下，将聚合物水溶液均匀涂敷于多孔支撑层上，在25℃～50℃温度下，干燥20～40分钟；浸入含0.2～2质量份交联剂的溶液中，25～30℃温度下静置2～5分钟，挥发溶剂后，在40～80℃温度下，固化0.5～4小时，得到荷正电纳滤膜；所述的含有叔胺基团的单体为甲基丙烯酸‑N，N‑二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸‑N，N‑二乙氨基甲酯或甲基丙烯酸‑N，N‑二甲氨基甲酯；所述的丙烯酸羟烷酯单体为丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯或甲基丙烯酸羟丙酯。