发明名称 一种密封结构以及制造这种密封结构的方法
摘要 本发明公开了一种制造结构(1100)的方法,所述方法包括在衬底(101)上形成罩元件(401),去除罩元件(401)下的衬底(101)的材料(103),从而在罩元件(401)和衬底(101)之间形成间隙(802),并重新布置罩元件(401)和/或衬底(101)的材料,从而合并罩元件(401)和衬底(101),以桥接间隙(802)。
申请公布号 CN101535171B 申请公布日期 2011.07.20
申请号 CN200780042891.5 申请日期 2007.11.15
申请人 NXP股份有限公司 发明人 约翰内斯·东科尔斯;埃尔文·海曾;菲利普·默尼耶-贝亚尔;格哈德·科普斯
分类号 H01L21/56(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/56(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种制造结构(1100)的方法,所述方法包括:在衬底(101)上形成罩元件(401);去除所述衬底(101)和所述罩元件(401)之间的邻接区域中的材料(103),从而形成所述罩元件(401)和所述衬底(101)之间的间隙(802);重新布置所述罩元件(401)和/或所述衬底(101)的材料,从而合并所述罩元件(401)和所述衬底(101),以桥接所述间隙(802),其中,重新布置材料指的是以不通过另外提供材料闭合间隙、而以衬底和/或罩元件的材料的迁移来自动闭合间隙的方式对结构进行处理,通过对所述结构(1100)进行热退火来重新布置材料。
地址 荷兰艾恩德霍芬