透明导电金属氧化物膜的形态设计

摘要

本发明提供一种透明导电金属氧化物膜的形态设计。所述设计涉及适合于蚀刻膜的包括蚀刻剂和一成分的蚀刻膏。蚀刻工艺包括通过涂膏法将本发明的蚀刻膏涂覆到透明导电金属氧化物膜上以蚀刻所述膜。通过所述蚀刻膏与所述涂膏法的组合获得具有稳定散射特性的透明导电金属氧化物膜，且可将其用于制造a-Si太阳能电池。

主权项

一种用于蚀刻膜的蚀刻膏，其包括：蚀刻剂，其为酸或碱；以及一成分，其包括选自由环氧树脂、聚碳酸酯、硅酮、聚酰亚胺、聚苯胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯及其组合组成的群组中的至少一个成员。