| 发明名称 | 微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。 | ||
| 申请公布号 | CN102129180A | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN201110021679.9 | 申请日期 | 2011.01.14 |
| 申请人 | 株式会社日立高新技术 | 发明人 | 吉武康裕;根本亮二;上野刚渡 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;郭凤麟 |
| 主权项 | 一种微镜器件的筛选方法，该微镜器件生成用于进行无掩膜曝光的复制图案，该筛选方法的特征在于，具备如下步骤：对所述微镜器件的微镜照射照明光，拍摄来自所述微镜的衍射光分布；把基于曝光仿真结果的多个衍射光分布的信息与来自所述微镜的衍射光分布的信息进行比较；以及根据所述比较结果，显示所述微镜器件为合格品或不合格品的信息以及所述衍射光分布的图像。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||