| 发明名称 | 亚分辨率辅助图形的设置以及光刻掩膜版的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了亚分辨率辅助图形的设置以及光刻掩膜版的制作方法，其中亚分辨率辅助图形的设置方法包括：提供已布局的曝光图形，所述曝光图形包括关键图形以及次要图形；在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形；在不影响所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形与其邻近的关键图形的间距最小化。整体上提高关键图形的聚焦深度，进而扩大工艺窗口，改善小尺寸光刻的光学邻近校正中禁止光学空间周期所带来的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN102129166A | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN201010022716.3 | 申请日期 | 2010.01.12 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 杨青 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种亚分辨率辅助图形的设置方法，其特征在于，包括：提供已布局的曝光图形，所述曝光图形包括关键图形以及次要图形；在所述曝光图形的间隙处设置亚分辨率辅助图形；在不降低所述关键图形的曝光分辨率的条件下，所述亚分辨率辅助图形与其邻近的关键图形的间距最小化。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||