发明名称 |
垂直式晶体管结构 |
摘要 |
本发明涉及一种垂直式晶体管结构,包括一基板、一源极、一第一闸极、一第一绝缘层、一第二闸极、一闸绝缘层、一汲极、一第二绝缘层以及一半导体通道层。源极配置于基板上。第一闸极配置于源极上且具有至少一第一贯孔。第一绝缘层配置于第一闸极与源极之间。第二闸极配置于第一闸极上且具有至少一第二贯孔。闸绝缘层配置于第一闸极与第二闸极之间且具有至少一第三贯孔。第一贯孔、第二贯孔以及第三贯孔相互连通。汲极配置于第二闸极上。第二绝缘层配置于第二闸极与汲极之间。半导体通道层填充于第一贯孔、第二贯孔与第三贯孔内。本发明提供一种垂直式晶体管结构,其具有较高的导通电流,且可有效降低漏电流的情况产生。 |
申请公布号 |
CN102130175A |
申请公布日期 |
2011.07.20 |
申请号 |
CN201010613431.7 |
申请日期 |
2010.12.30 |
申请人 |
福州华映视讯有限公司;中华映管股份有限公司 |
发明人 |
翁守正;李怀安 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
福州元创专利商标代理有限公司 35100 |
代理人 |
蔡学俊 |
主权项 |
一种垂直式晶体管结构,其特征在于,包括:一基板;一源极,配置于该基板上;一第一闸极,配置于该源极上,且具有至少一第一贯孔,其中该第一贯孔贯穿该第一闸极;一第一绝缘层,配置于该第一闸极与该源极之间;一第二闸极,配置于该第一闸极上,且具有至少一第二贯孔,其中该第二贯孔贯穿该第二闸极;一闸绝缘层,配置于该第一闸极与该第二闸极之间,且具有至少一第三贯孔,其中该第三贯孔贯穿该闸绝缘层,且该第一贯孔、该第二贯孔以及该第三贯孔相互连通;一汲极,配置于该第二闸极上;一第二绝缘层,配置于该第二闸极与该汲极之间;以及一半导体通道层,填充于该第一贯孔、该第二贯孔与该第三贯孔内。 |
地址 |
350015 福建省福州市马尾科技园区兴业路1号 |