三光合一超宽波段高增透膜的制备方法

摘要

本发明公开的一种三光合一超宽波段高增透膜的制备方法，利用本方法可以实现可见光、近红外和中红外多个光学波段超宽范围的高增透镀膜的设计和镀制。提高膜层的防潮性能和抗激光损伤能力，及野外恶劣环境的使用寿命。本发明通过下述技术方案予以实现：(1)以氟化锂或氟化钡晶体材料为基底，用膜系设计公式G/4M6H2LM0.6L0.3M/A，计算每层膜的光学厚度值；(2)清洁被镀基底；(3)温烘烤基底；(4)用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底；(5)将Al2O3，SiO和MgF2三种膜料放入旋转电子枪蒸发源坩锅中，根据上述(1)的公式顺序和厚度值用光学真空镀膜机完成镀膜；(6)退火处理。本发明解决了在潮解软晶体材料上镀膜不牢的工艺难题。

主权项

一种三光合一超宽波段高增透膜的制备方法，其特征在于，该方法包括由以下镀制工艺步骤组成，步骤如下：(1)以氟化锂(LiF)或氟化钡(BaF2)晶体材料为基底，用膜系设计公式：G/4M6H2LM0.6L0.3M/A，计算每层膜的光学厚度值并按顺序列表格，其中，G为LiF或BaF2晶体材料基底，M为Al2O3膜料，H为SiO膜料，L为MgF2膜料，A为折射率NA＝1的空气介质，膜系参考波长λc＝860nm；将上述M、H、L膜料依次放入镀膜机真空室的电子枪蒸发源坩锅内备用；(2)在镀膜基底超声波清洗工艺中，用清洗液清洁被镀基底，吹干，放入真空室抽真空待镀；(3)加温烘烤基底，在真空环境下，在30℃～150℃范围内逐渐升温烘烤；(4)在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，根据前述膜系设计公式计算出的各层膜的光学厚度值和表格顺序，将Al2O3、SiO和MgF2三种膜料依次放入旋转速率为100～120转/分钟的旋转电子枪蒸发源坩锅中，然后用光学真空镀膜机按所述步骤(1)的公式列表顺序和厚度值完成镀膜；(5)在离子源辅助蒸镀工艺中，用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底；一直让其产生的离子束轰击基底到镀膜完成；(6)在高低温退火工艺中，将镀完膜的LiF或BaF2晶体在真空室自然冷却到室温后进行退火处理。