发明名称 Procédé de fabrication de résistances photo-sensibles frittées et résistance conforme à celle obtenue à l'aide du procédé ou d'un procédé similaire
摘要
申请公布号 FR1271874(A) 申请公布日期 1961.09.15
申请号 FR19600841361 申请日期 1960.10.17
申请人 CESKOSLOVENSKA AKADEMIE VED 发明人
分类号 H01L31/08 主分类号 H01L31/08
代理机构 代理人
主权项
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