| 发明名称 | 光谱纯度滤光片和光刻设备 | ||
| 摘要 | 一种光谱纯度滤光片(30)配置成反射极紫外辐射。所述光谱纯度滤光片(30)包括：基底(31)；和抗反射涂层(32)，所述抗反射涂层在所述基底(31)的顶表面上。所述抗反射涂层(32)配置成透射红外辐射。滤光片还包括多层堆叠体(33)，所述多层堆叠体(33)配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射。 | ||
| 申请公布号 | CN102132214A | 申请公布日期 | 2011.07.20 |
| 申请号 | CN200980133185.0 | 申请日期 | 2009.07.29 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/08(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光谱纯度滤光片，所述光谱纯度滤光片配置成反射极紫外辐射，所述光谱纯度滤光片包括：基底；抗反射涂层，所述抗反射涂层在所述基底的顶表面上，所述抗反射涂层配置成透射红外辐射；和多层堆叠体，配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||