超净高纯醋酸的制备方法及其装置

摘要

本发明涉及一种超净高纯醋酸的制备方法，高纯醋酸主要适用于微电子工业制造大规模集成电路半导体器件行业中作为清洗和腐蚀之用。所述方法是：先将工业级的醋酸(99.0％)原料与占醋酸原料重量0.1％～5％的高锰酸钾在氧化处理器中混合，常温常压30～60分钟后过滤，滤液与双烯丙基18-冠-6醚的有机硅高分子络合剂在络合处理器里混合30～120分钟，再在0.1～0.2MPa的运行压力下经过微滤器的微滤膜进行过滤，滤液以0.05-0.20mm/s的速度通过2000mm脱水柱进入到多级精馏塔，出塔的半成品在0.5～0.8MPa的运行压力下经纳滤器的纳滤膜过滤后进入成品接受器。本发明方法工艺简便，生产成本低，产品纯度高，杂质离子含量低。所用的装置占地面积小，易自动化操作，质量稳定，可连续生产。

主权项

一种超净高纯醋酸的制备方法，其特征在于所述方法是：先将重量百分比含量为99.0％工业级的醋酸原料与占工业级的醋酸原料重量0.1％～5％的高锰酸钾在氧化处理器中混合，常温常压30～60分钟后过滤，以除去还原性杂质，滤液与双烯丙基18‑冠‑6醚的有机硅高分子络合剂在络合处理器里混合30～120分钟，再在0.1～0.2MPa的运行压力下经过微滤器的微滤膜进行过滤，滤液以0.05‑0.20mm/s的速度通过2000mm脱水柱进入到三级精馏塔，出塔的半成品在0.5～0.8MPa的运行压力下经纳滤器的纳滤膜过滤后进入成品接受器。