发明名称 |
一种玻封双向触发二极管芯片的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种玻封双向触发二极管芯片的制造方法,采用双向晶体管对称基区互联方法,将N型硅单晶片进行大面积P+扩散后,再进行双面光刻发射区窗口、发射区扩散,再调整雪崩击穿电压和负阻,进行双面光刻引线孔、金属化、凸点电镀、划片,最后形成双向触发二极管。本发明采用双向晶体管对称基区互联方法,形成垂直对称双晶体管结构,利用成熟的晶体管基区控制技术,达到调整击穿电压和实现雪崩负阻特性,生产的双向触发二极管芯片具有负阻摆幅大、反向漏电小、重复性和稳定性好的特点,一般能达到击穿电压的40%。 |
申请公布号 |
CN102129985A |
申请公布日期 |
2011.07.20 |
申请号 |
CN201010610225.0 |
申请日期 |
2010.12.29 |
申请人 |
朝阳无线电元件有限责任公司 |
发明人 |
李志福 |
分类号 |
H01L21/329(2006.01)I;H01L21/223(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/329(2006.01)I |
代理机构 |
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 |
代理人 |
蒋常雪 |
主权项 |
一种玻封双向触发二极管芯片的制造方法,其特征在于,所述方法步骤为:采用双向晶体管对称基区互联方法,将N型硅单晶片进行大面积P+扩散后,再进行双面光刻发射区窗口、发射区扩散、调整雪崩击穿电压和负阻,双面光刻引线孔、金属化、凸点电镀、划片,最后形成双向触发二极管。 |
地址 |
122000 辽宁省朝阳市新华路二段75号 |