发明名称 图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法和系统
摘要 本发明涉及一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法,其中包括步骤:S1、对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;S2、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上;S3、通入刻蚀气体,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过冷却循环机对载片基台进行冷却,每个片槽通入氦气对衬底进行冷却;S4、刻蚀完毕后将刻蚀后的衬底取出。本发明还涉及一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀系统,本发明无需用蒸镀硬掩膜,直接用光刻胶做掩膜,能做出精细的刻蚀图形,采用低温刻蚀解决了刻蚀过程中出现的光刻胶碳化、图形高温变形等问题。
申请公布号 CN102129971A 申请公布日期 2011.07.20
申请号 CN201010604386.9 申请日期 2010.12.24
申请人 长治虹源科技晶体有限公司 发明人 谢雪峰;李明远;郭爱华
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人 林俭良
主权项 一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法,其特征在于,包括步骤:S1、对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;S2、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的具有多个片槽的载片基台上;S3、通入刻蚀气体,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却,每个片槽通入氦气对所述衬底进行冷却;S4、刻蚀完毕后将刻蚀后的衬底取出。
地址 046000 山西省长治市城区解放东街绿桥生态园3号楼
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