发明名称 |
图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法和系统 |
摘要 |
本发明涉及一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法,其中包括步骤:S1、对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;S2、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上;S3、通入刻蚀气体,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过冷却循环机对载片基台进行冷却,每个片槽通入氦气对衬底进行冷却;S4、刻蚀完毕后将刻蚀后的衬底取出。本发明还涉及一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀系统,本发明无需用蒸镀硬掩膜,直接用光刻胶做掩膜,能做出精细的刻蚀图形,采用低温刻蚀解决了刻蚀过程中出现的光刻胶碳化、图形高温变形等问题。 |
申请公布号 |
CN102129971A |
申请公布日期 |
2011.07.20 |
申请号 |
CN201010604386.9 |
申请日期 |
2010.12.24 |
申请人 |
长治虹源科技晶体有限公司 |
发明人 |
谢雪峰;李明远;郭爱华 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 |
代理人 |
林俭良 |
主权项 |
一种图形化蓝宝石衬底的刻蚀方法,其特征在于,包括步骤:S1、对显影后的衬底进行烘烤处理,将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜;S2、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后,将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的具有多个片槽的载片基台上;S3、通入刻蚀气体,通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量;同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却,每个片槽通入氦气对所述衬底进行冷却;S4、刻蚀完毕后将刻蚀后的衬底取出。 |
地址 |
046000 山西省长治市城区解放东街绿桥生态园3号楼 |