Verfahren zum Beschichten eines Substrats

摘要

Verfahren zum Beschichten eines Substrats (S1 bis S5) bei Normaldruck, bei dem aus einem Arbeitsgas ein Plasmastrahl erzeugt wird, wobei mindestens ein Precursormaterial dem Arbeitsgas und/oder dem Plasmastrahl zugeführt und im Plasmastrahl zur Reaktion gebracht wird und wobei mindestens ein Reaktionsprodukt mindestens eines der Precursoren auf mindestens einer Oberfläche des Substrats (S1 bis S5) und/oder auf mindestens einer auf der Oberfläche angeordneten Schicht abgeschieden wird, wobei mindestens eine weitere Schicht mittels eines nasschemischen Prozesses abgeschieden wird und wobei die Abscheidung der Schichten bei Atmosphärendruck durchgeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mittels des Plasmastrahls eine Siliziumdioxid enthaltende Schicht abgeschieden wird, wobei anschließend ein Primer aufgesprüht wird, wobei schließlich ein lichtabsorbierende Nanopartikel enthaltender Lack nasschemisch abgeschieden wird.