| 发明名称 | 化学机械研磨剂及化学机械研磨方法 | ||
| 摘要 | 一种化学机械研磨剂，所述化学机械研磨剂包括：亲水基表面活性剂、氧化剂、固体颗粒和水。本发明提供的化学机械研磨剂中包括亲水基表面活性剂材料，所述亲水基表面活性剂材料可以降低化学机械研磨剂和疏水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和疏水性薄膜更紧密贴合，减少多晶硅或硼磷硅玻璃等的疏水性薄膜表面的残留物或颗粒等的缺陷，改善化学机械研磨的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN102120928A | 申请公布日期 | 2011.07.13 |
| 申请号 | CN201010022578.9 | 申请日期 | 2010.01.08 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 邵颖;蒋莉;林翔;张明华;黎铭琦 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种化学机械研磨剂，其特征在于，所述化学机械研磨剂包括：亲水基表面活性剂、氧化剂、固体颗粒和水。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||