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发明名称 STRAIN ENGINEERED COMPOSITE SEMICONDUCTOR SUBSTRATES AND METHODS OF FORMING SAME
摘要
申请公布号 KR20110081331(A) 申请公布日期 2011.07.13
申请号 KR20117012475 申请日期 2008.12.19
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 LETERTRE FABRICE;BETHOUX JEAN MARC;BOUSSAGOL ALICE
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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