光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，在对电路图形修正时同时考虑边缘布置误差以及工艺窗口相关参数，例如光强斜率，并且选取对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤进行针对性修正，而对另一子电路图形修正进行工艺窗口相关参数针对性修正。所述光学邻近修正方法对工艺窗口有明显助益。

主权项

一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括下列步骤：根据所获得的初始边缘布置误差，执行第一子电路图形修正步骤，获得第一边缘布置误差；根据所述第一边缘布置误差，执行第二子电路图形修正步骤，获得第二边缘布置误差；比较第一边缘布置误差、初始边缘布置误差的差值与第二边缘布置误差、第一边缘布置误差的差值，以确定对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤；执行对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤；获得所述对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤后的工艺窗口相关参数；对另一子电路图形，执行基于所述工艺窗口相关参数的另一子电路图形修正步骤，所述光学邻近修正方法还包括：获得基于所述工艺窗口相关参数的另一子电路图形修正步骤后的边缘布置误差和工艺窗口相关参数；若所述边缘布置误差或工艺窗口相关参数未达到设定值，则重复执行对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤和基于所述工艺窗口相关参数的另一子电路图形修正步骤，直到所述边缘布置误差和工艺窗口相关参数均达到设定值。