用于控制流到处理腔室的气流的方法和装置

摘要

本发明提供一种用于将气体输送到半导体处理系统的方法和装置。在一个实施方式中，用于将气体输送到半导体处理系统的装置包括具有入口和出口的多个气体输入和输出管道。连接管道耦接各对气体输入和气体输出管道。连接阀配置为控制经过各个连接管道的流量。气体质量流量控制器配置为控制流入各个入口的流量。在另一实施方式中，一种方法包括：提供具有至少多个入口的歧管，其中该多个入口可选择性耦接到多个出口其中至少之一；在处理之前或到校准管路之前，流动一种或多种气体经过歧管到旁通处理腔室的真空环境；以及在衬底处理期间流动一种或多种气体进入处理腔室。

主权项

一种用于将气体输送到半导体处理系统的装置，包含：多个气体输入管道，其中每个输入管道具有入口；多个气体输出管道，其中每个输出管道具有出口；多个连接管道，每个连接管道耦接各自一对气体输入管道和气体输出管道；多个连接阀，每个连接阀配置为控制经过各自连接管道的流量；以及多个气体质量流量控制器，每个气体质量流量控制器配置以控制进入各自入口的流量。