| 发明名称 | 真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法，该真空处理设备包括：处理室，其构造成在真空中处理目标物体；第一装载锁定室，其构造成存储目标物体以便将该目标物体装载至处理室中；第二装载锁定室，其构造成存储目标物体以便从处理室卸载处理过的目标物体；以及至少两个带阀管道，其构造成将第一装载锁定室连接至第二装载锁定室。 | ||
| 申请公布号 | CN101567311B | 申请公布日期 | 2011.07.13 |
| 申请号 | CN200910136914.X | 申请日期 | 2009.04.24 |
| 申请人 | 佳能安内华股份有限公司 | 发明人 | 吉冈胜也 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张涛 |
| 主权项 | 一种真空处理设备，其包括：处理室，其构造成在真空中处理目标物体；第一装载锁定室，其构造成存储所述目标物体以便将所述目标物体装载至所述处理室中；第二装载锁定室，其构造成存储所述目标物体以便从所述处理室卸载处理过的目标物体；以及至少两个带阀管道，其构造成将所述第一装载锁定室连接至所述第二装载锁定室。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||