一种清洗装置

摘要

本实用新型提供一种清洗装置，用于清洗化学机械抛光设备的抛光头，所述清洗装置设有第一清洗刷和第二清洗刷，所述第一清洗刷包括有第一刷柄和设置在所述第一刷柄一端的第一刷毛，所述第一刷毛与转到清洗位置的所述抛光头的侧面相接触，所述第二清洗刷包括第二刷柄和设置在所述第二刷柄一端的第二刷毛，所述第二刷毛与转到清洗位置的所述抛光头底面的保持环相接触。本实用新型中的清洗设备能够有效冲洗化学机械抛光设备的抛光头，尤其是有效冲洗所述抛光头的侧面和底面通槽中的残留物，进而避免残留物结晶长大，对后续进行化学抛光的晶圆造成划痕和污染。

主权项

一种清洗装置，用于清洗化学机械抛光设备的抛光头，其特征在于，所述清洗装置设有第一清洗刷和第二清洗刷，所述第一清洗刷包括有第一刷柄和设置在所述第一刷柄一端的第一刷毛，所述第一刷毛与转到清洗位置的所述抛光头的侧面相接触，所述第二清洗刷包括第二刷柄和设置在所述第二刷柄一端的第二刷毛，所述第二刷毛与转到清洗位置的所述抛光头底面的保持环相接触。