用于制备光致抗蚀剂图案的方法

摘要

本发明提供一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，该方法包括以下步骤(A)至(D)：(A)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物以形成第一光致抗蚀剂膜，将第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，然后用碱性显影液将曝光的第一光致抗蚀剂膜显影，从而形成第一光致抗蚀剂图案；(B)使第一光致抗蚀剂图案对以下步骤(C)中的辐射惰性，使第一光致抗蚀剂图案不溶于碱性显影液或者使第一光致抗蚀剂图案不溶于在以下步骤(C)中使用的第二光致抗蚀剂组合物；(C)在步骤(B)中获得的第一光致抗蚀剂图案上，涂覆第二光致抗蚀剂组合物以形成第二光致抗蚀剂膜，将第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，和(D)用碱性显影液将曝光的第二光致抗蚀剂膜显影，从而形成第二光致抗蚀剂图案。

主权项

1.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(A)至(D)：(A)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物以形成第一光致抗蚀剂膜，将所述第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，然后用碱性显影液将曝光的第一光致抗蚀剂膜显影，从而形成第一光致抗蚀剂图案的步骤，所述第一光致抗蚀剂组合物包含树脂、酸生成剂和交联剂，所述树脂包含在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元，(B)使所述第一光致抗蚀剂图案对以下步骤(C)中的辐射惰性、使所述第一光致抗蚀剂图案不溶于碱性显影液或者使所述第一光致抗蚀剂图案不溶于在以下步骤(C)中使用的第二光致抗蚀剂组合物的步骤，(C)在步骤(B)中获得的所述第一光致抗蚀剂图案上，涂覆第二光致抗蚀剂组合物以形成第二光致抗蚀剂膜，将所述第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，所述第二光致抗蚀剂组合物包含：树脂，所述树脂包含在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元，和至少一种酸生成剂，所述至少一种酸生成剂选自由式(I)所示的光致酸生成剂和式(II)所示的光致酸生成剂组成的组：在式(I)中，R¹和R²独立地表示C1-C12烷基或可以具有一个或多个取代基的C6-C18芳族烃基，R³表示C1-C12烷基，或者R²和R³彼此结合形成C3-C12二价无环烃基，所述二价无环烃基与S一起形成环，并且所述C3-C12二价无环烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-代替，并且A₁^-表示有机阴离子，在式(II)中，R⁴和R⁵独立地表示C1-C12烷基、C3-C18饱和环状烃基或C6-C18芳族烃基，或者R⁴和R⁵彼此结合形成C3-C12二价无环烃基，所述二 价无环烃基与S一起形成环，并且所述C3-C12二价无环烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-代替，R⁶表示氢原子，R⁷表示C1-C12烷基、C3-C18饱和环状烃基或可以具有一个或多个取代基的C6-C18芳族烃基，或者R⁶和R⁷彼此连接形成C1-C10二价无环烃基，所述二价无环烃基与R⁶和R⁷所结合的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基，并且A₂^-表示有机阴离子，和(D)用碱性显影液将曝光的所述第二光致抗蚀剂膜显影，从而形成第二光致抗蚀剂图案的步骤。