发明名称 层合结构、使用该层合结构制备液晶单元基板的方法、液晶单元基板、以及液晶显示装置
摘要 一种层合结构,其包括至少一层由液晶组合物形成的光学各向异性层,以及至少一层光敏聚合物层,所述液晶组合物包含具有两种或更多种反应性基团的化合物。该层合结构可用于在液晶单元内部形成光学各向异性层。该层合结构也可用于在液晶单元内部形成具有光学各向异性层的液晶单元基板,该光学各向异性层具有光学补偿能力。
申请公布号 CN101395504B 申请公布日期 2011.07.13
申请号 CN200780007759.0 申请日期 2007.03.02
申请人 富士胶片株式会社 发明人 富田秀敏;网盛一郎;冈村寿
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B27/16(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 于辉
主权项 1.一种层合结构,其包括至少一层由液晶组合物形成的光学各向异性层,以及至少一层光敏聚合物层,所述液晶组合物包含具有两种或更多种反应性基团的化合物,所述化合物选自由通式(11)表示的化合物;<img file="FSB00000083103200011.GIF" wi="1798" he="285" />其中R<sub>102</sub>表示氢原子或甲基;R<sub>2</sub>表示氢原子、甲基或乙基;SP1是由-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-{O-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>}<sub>l</sub>表示的基团,其中l表示1至3的整数;SP2是由-(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-表示的基团,其中n表示0至10的整数;L1和L2中的每一个表示二价连接基团;并且M表示介晶基。
地址 日本东京