| 主权项 |
一种气密型门体改良结构，系包括有：一门体，该门体包括有两侧面及连结该两侧面之周端面，该周端面两侧系至少分别设有一定位槽；一气密组件，系至少包括有二气密条，该二气密条系分别设于该周端面上之该二定位槽。如申请专利范围第1项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密条系包括有一嵌设于该定位槽之气密嵌条及一凸伸出该定位槽之气密抵条。如申请专利范围第2项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密嵌条系具有一中空部，该气密嵌条之两侧系设有复数嵌肋。如申请专利范围第3项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密嵌条之底面系于中心部位处分别向两侧倾斜延伸，该嵌肋系呈与该底面相同倾斜方向之凸条体。如申请专利范围第4项所述之一种气密型门体改良结构，其中该嵌肋之间系具有间隙距离。如申请专利范围第5项所述之一种气密型门体改良结构，其中该嵌肋系抵接于该定位槽之两侧壁。如申请专利范围第6项所述之一种气密型门体改良结构，其中该定位槽顶端相邻该周端面系具有一端抵件，使该定位槽形成一上窄下宽之凹槽体。如申请专利范围第7项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密嵌条最顶端之该嵌肋系抵接于该端抵件。如申请专利范围第2项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密抵条系为一具有中空部之条体。如申请专利范围第2项所述之一种气密型门体改良结构，其中该气密抵条系具有挠性而可被适度压缩。 |
