| 主权项 |
一种用于各种形状及/或尺寸之工件之真空固定装置，其特征在于，该装置包含：一真空固定台，在其一支撑表面上排列有一真空孔口阵列；以及一真空台遮罩，在其上面形成有至少二孔阵列，该至少二孔阵列相互偏置，各该至少二孔阵列系可与该真空孔口阵列至少其中之某些真空孔口对齐，各该至少二孔阵列之每一孔皆被构造成位于该等工件至少其中之一下面。一种用于各种形状及/或尺寸之工件之真空固定装置，该装置包含：一真空台遮罩，在其一支撑表面上排列有一孔阵列，该遮罩被构造成位于该等工件至少其中之一下面；以及一真空固定台，在其上面形成有至少二真空孔口阵列，该至少二真空孔口阵列相互偏置，该遮罩之该等孔至少其中之某些系可与各该至少二真空孔口阵列之孔口对齐。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中每一孔之横截面尺寸至少略大于每一真空孔口之横截面尺寸。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中该真空台遮罩系可相对于该真空固定台定位于至少二可选择之位置处。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中该真空台遮罩包含四个孔阵列。如请求项5所述之真空固定装置，其中该真空台遮罩系可相对于该真空固定台定位于四个可选择之位置处。如请求项6所述之真空固定装置，其中该四个可选择之位置系由该真空固定台之隅角界定。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中该真空台遮罩位于该真空固定台之上方。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中该真空台遮罩位于该真空固定台之增压室内。如请求项1或2所述之真空固定装置，其中该至少二阵列之区域至少部分地重叠。一种用于一真空固定台以及各种形状及/或尺寸之工件之真空台遮罩，该真空固定台在其一支撑表面上排列有一真空孔口阵列，该遮罩包含一基板，在该基板上形成有至少二孔阵列，该至少二孔阵列相互偏置，各该至少二孔阵列系可与该真空孔口阵列至少其中之某些真空孔口对齐。如请求项11所述之真空台遮罩，其中该至少二孔阵列之每一孔之横截面尺寸至少略大于该真空孔口阵列之每一真空孔口之横截面尺寸。如请求项11或12所述之真空台遮罩，其中该真空台遮罩包含四个孔阵列。如请求项11或12所述之真空台遮罩，其中该至少二阵列之区域至少部分地重叠。 |
