| 主权项 |
一种微影装置，其包括：一经建构以提供一辐射光束之照明系统；一经建构以支撑一图案化元件之支撑结构，该图案化元件系以一图案用以赋予该光束之一截面以形成一图案化光束；一用以固持一基板之基板台；一将该图案化光束投射至该基板之一目标区上之投影系统；一经建构以接收来自一第一辐射源之辐射且将辐射传输至该照明系统之集光器；及至少一加热器，其用以当该集光器实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时加热该集光器。如请求项1之装置，其中：该加热器包含一第二辐射源。如请求项1之装置，其中：该加热器包含一电加热器。如请求项1之装置，其中：该集光器包含反射部件，其具有将自该第一辐射源所接收到之该辐射朝向一聚焦点反射之反射内表面。如请求项4之装置，其中：该加热器系经配置以将热量供应至该集光器之该等反射部件。如请求项4之装置，其中：该等辐射反射部件中之至少一辐射反射部件系耦合至热传导部件，其中该加热器系经建构以藉由在该等热传导部件内进行热转移来加热该等反射部件。如请求项1之装置，其中：该加热器系连接至一经建构以控制该加热器之控制器。如请求项1之装置，其进一步包括：用以量测该集光器之至少部分之至少一温度的一或多个温度感应器。如请求项2之装置，其中：该加热器包含一用以传导一加热电流之电加热层，其中该加热层之该厚度系经预定以产生该加热层之所要局部电阻。如请求项9之装置，其中：该加热层包括至少一种适应真空之物质。如请求项10之装置，其中：该至少一种适应真空之物质为镍。如请求项1之装置，其中：该第一辐射源为一经构造以间歇地产生辐射之间歇性辐射源。一种用于如请求项1之一微影装置之集光器，该集光器包括：经建构以接收来自一第一辐射源之辐射的反射部件，该等反射部件中之每一部件具有一反射表面，以将接收自该第一辐射源之该辐射朝向一聚焦点反射；及当该集光器实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时，一加热器热耦合至该等反射部件且经建构以加热该等反射部件。一种制造一元件之方法，其包括：提供一基板；提供一第一辐射源；经如请求项13之一集光器将来自该第一辐射源的辐射传输至一照明系统；使用该照明系统提供一辐射光束；赋予该光束一截面图案以形成一图案化辐射光束；及将该图案化辐射光束投射至该基板之一目标区上；及当该集光器实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时，藉由选择性地加热该集光器来保持该集光器于一实质上恒定之作业温度上。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含实质上仅当该集光器实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时加热该集光器。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含将该集光器连续加热至该作业温度，使得由吸收来自该第一辐射源之辐射所引起之进一步加热实质上不会导致该集光器之该温度发生变化。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含该集光器接收来自该第一辐射源之若干辐射脉冲。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含使用电来加热该集光器。如请求项18之方法，其中：该保持该集光器之方法包含藉由至少一进一步辐射源来加热该集光器。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含产生不同热量以加热该集光器之不同部分，且其中该等不同热量系相关于该集光器之该等不同部分自该第一辐射源所接收到的辐射量。如请求项14之方法，其中：该传输辐射之方法包含间歇地传输辐射。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含当停用该第一辐射源时启动该加热器。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含当侦测到该集光器之该温度下降时启动该加热器。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含将该集光器之一部分保持在一预定之实质上恒定之作业温度上。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含加热该集光器之一部分同时由该集光器接收来自该辐射源之辐射。如请求项14之方法，其中：该保持该集光器之方法包含产生不同热量以加热该集光器之不同部分，其中该等不同热量系相关于该等各别、不同集光器部分中之每一集光器部分自该第一辐射源所接收到之辐射量。如请求项14之方法，其进一步包括：为该集光器提供一加热层；及为该加热层选择一对应于该加热层之所要局部电阻之厚度。一种微影装置，其包括：用以接收来自一第一辐射源之辐射且将辐射传输至一照明系统之接收及传输构件；及当该接收及传输构件实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时，用以加热该接收及传输构件之加热构件。如请求项28之微影装置，其进一步包括：一控制构件，用以控制用于加热以将该接收及传输构件保持在一预定温度范围内之该加热构件。一种制造一元件之方法，其包括：经一集光器将来自一第一辐射源的辐射传输至一照明系统；当该集光器实质上未接收到来自该第一辐射源之辐射时，藉由选择性地加热该集光器将该集光器保持在一实质上恒定之作业温度上；及将一辐射光束投射至一基板之一目标区上。 |
