| 摘要 |
1. Устройство для инициации СВЧ разряда и создания плазмы, содержащее размещенные в газовой среде инициатор СВЧ разряда, СВЧ излучатель, воздействующий на инициатор СВЧ разряда, и проводящую поверхность, при этом инициатор СВЧ разряда установлен между СВЧ излучателем и проводящей поверхностью параллельно проводящей поверхности, ! отличающееся тем, что инициатор СВЧ разряда расположен на расстоянии h, существенно меньшем одной четверти длины волны λ от проводящей поверхности. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что между инициатором СВЧ разряда и проводящей поверхностью расположен диэлектрик. ! 3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что устройство содержит произвольное количество параллельных друг другу инициаторов СВЧ разряда, которые расположены на любом заданном расстоянии друг от друга, но без электрического контакта между собой. |
